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这种双面加工，一般速度不高。下模比较大，上模比较小，挡圈直径比上模大，比下模小。适当地调节上模的摆动量，可以实现平板的上下表面同时精磨或抛光。研磨或抛光时，人工将磨料或抛光粉间断地添加到下模和平板的表面。这种低速的双面加工，比单面加工提高了效率，但被加工的平面度和双面的平行度则达不到很高的要求，所以只适用于般精度平板的加工。
随着大规模、超大规模集成电路制造技术的发展，精密光学平板厂家，由于大批量半导体硅片加工的需要，国外出现了双面高速加工机床，适用于半导体硅片的双面研磨和抛光，进而被推广到高速研磨抛光光电仪器中的光学平板。
早期的双面加工，是在一般的二轴机上，采用上下平模，使用挡圈和分离片对平板的两个面同时进行加工，其装置如图12-1所示，光学平板，主要进行精磨和抛光的双面加工。加工时，光学面包板，下模1随机床主轴转动，上模5在摆架带动下摆动，同时随下模的转动而转动，其转动没有动力，被加工平板2放在分离片3内，摆动的上模将带动挡圈，从而带动被加工平板在下模平面上平动，同时平板亦可以在分离片圈内随上下模的转动而转动。
用牛顿环检验一般会有样板，如果是检验光学平板平整度，用的样板就是平面样板。有生产厂家专门做这个的。 检验方法：先将样板标准面和待检验平板表面擦静，光学面包板厂家，然后使这两个面紧密接触，并尽量排除两接触面之间的空气，然后从样板上方观察会发现彩色的光圈环带。图纸上应该有要求你做到几个光圈和几道局部光圈，然后就可以知道哪个地方高了哪个地方低了。 除用样板以外，干涉仪也通常用来检测光学零件表面的精度
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